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本发明公开了一种磁控溅射镀膜方法及装置，其中磁控溅射镀膜方法包括以下步骤：将工作气体进行电离，靶材与基片之间形成气体正离子和气体负离子；气体正离子轰击靶材，靶材原子脱离靶材往靠近基片的方向运动；隔离磁场对靠近基板的空气正离子进行隔离，减少空...
该专利属于湖南匡楚科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖南匡楚科技有限公司授权不得商用。

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