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本发明提供了一种管式清洗设备，包括筒形腔体以及设置于所述筒形腔体的清洗供气部。本发明的所述管式清洗设备中，所述清洗供气部包括的若干出气口的一部分朝向所述筒形腔体的同一组成部分设置以使提供的清洗气体形成主喷射轨迹，另一部分朝向所述主喷射轨迹设...
该专利属于理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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