管式清洗设备以及光伏镀膜系统技术方案

本发明专利技术提供了一种管式清洗设备，包括筒形腔体以及设置于所述筒形腔体的清洗供气部。本发明专利技术的所述管式清洗设备中，所述清洗供气部包括的若干出气口的一部分朝向所述筒形腔体的同一组成部分设置以使提供的清洗气体形成主喷射轨迹，另一部分朝向所述主喷射轨迹设置，有利于通过自不同出气口喷射的清洗气体相互之间形成扰流，对所述筒形腔体内不同部位，特别是远离所述若干出气口部位的清洗气体浓度起到增强及扰动作用，从而实现清洗气体在筒形腔体内的再混合以及提高待清洗器件和清洗气体的接触面积来提高清洗效率。本发明专利技术还提供了包含所述管式清洗设备的光伏镀膜系统。

【技术实现步骤摘要】
管式清洗设备以及光伏镀膜系统
本专利技术涉及太阳能电池制造
，尤其涉及管式清洗设备和光伏镀膜系统。
技术介绍
太阳能电池制造工艺中，利用等离子体增强化学气相沉积(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition，PECVD)法在晶硅表面形成减反射膜，能够通过减少光线的反射率来提高光能利用率，同时减反射膜还能够起到钝化效果并为电池提供长期的保护，从而有利于光电转化效率的提升。因此，高质量的氮化硅薄膜对提高晶硅太阳能电池的性能和质量都起到了至关重要的作用。现有技术中通常将能够放置几十甚至上百硅片的石墨舟送入石英管中，通过在石英管内激发等离子体进行PECVD沉积。由于石墨舟绝大部分表面也暴露在反应环境中，减反射膜沉积不仅在硅片表面进行，也在石墨舟的暴露表面进行，石墨舟表面的沉积层容易对硅片表面造成污染。因此，需要定期对石墨舟进行维护。现有技术中通常采用化学法对PECVD工艺的相关器件进行清洗维护。例如公开号为CN105742159A的中国专利申请公开了通过混酸和纯水清除光伏相关器件，例如石墨舟和石英管表本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种管式清洗设备，其特征在于，包括筒形腔体，所述筒形腔体设置有清洗供气部以向所述筒形腔体内提供清洗气体；/n所述清洗供气部包括若干出气口，所述若干出气口的一部分朝向所述筒形腔体的同一组成部分设置以使提供的清洗气体形成主喷射轨迹，另一部分朝向所述主喷射轨迹设置。/n

【技术特征摘要】
1.一种管式清洗设备，其特征在于，包括筒形腔体，所述筒形腔体设置有清洗供气部以向所述筒形腔体内提供清洗气体；
所述清洗供气部包括若干出气口，所述若干出气口的一部分朝向所述筒形腔体的同一组成部分设置以使提供的清洗气体形成主喷射轨迹，另一部分朝向所述主喷射轨迹设置。


2.根据权利要求1所述的管式清洗设备，其特征在于，所述若干出气口包括主出气口和从出气口，所述筒形腔体由相对的两个腔门以及位于所述两个腔门之间的筒形侧壁围设而成，所述主出气口朝向所述两个腔门中的任意一个设置，所述从出气口朝向所述筒形侧壁设置。


3.根据权利要求2所述的管式清洗设备，其特征在于，所述从出气口的数目至少为1，并沿所述筒形腔体的轴向方向或周向方向间隔设置。


4.根据权利要求3所述的管式清洗设备，其特征在于，所述筒形腔体内设置有载具固定部，以可拆卸固定连接包含若干载板的载具，并使所述主出气口和所述从出气口均朝向所述载具的开槽面设置。


5.根据权利要求3所述的管式清洗设备，其特征在于，所述清洗供气部还包括从所述两个腔门中的任意一个延伸至所述筒形腔体内的从清洗管路，所述从出气口设置于所述从清洗管路，所述从清洗管路沿所述筒形腔体的轴向方向和周向方向的至少一种设置。


6.根据权利要求5所述的管式清洗设备，其特征在于，所述从出气口距离所述筒形腔体内侧壁的垂直距离不小于所述筒形腔体内径的25％。


7.根据权利要求5所述的管式清洗设备，其特征在于，所述从出气口距离所述两个腔门的任意一种的垂直距离不小于所述筒形腔体长度的25％。


8.根据权利要求5所述的管式清洗设备，其特征在于，所述清洗供气部还包括主清洗管路，所述主出气口设置于所述主清洗...

【专利技术属性】
技术研发人员：奚明，胡兵，阳诗友，吴红星，刘锋，王祥，袁刚，
申请(专利权)人：理想晶延半导体设备上海股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31