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本发明实施例提供一种半导体结构的制造方法及半导体结构，制造方法包括：提供基底，在基底上形成在第一方向上延伸的位线以及位于相邻位线之间的沟槽；形成填充沟槽的介质层和接触层，介质层与接触层在第一方向上间隔设置，且介质层和接触层均与基底接触，接触...
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