温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种LPCVD多晶炉工艺炉膛，包括机架，所述机架用于支撑加热器和管口法兰，所述管口法兰固装有工艺管，所述工艺管内部可滑动放置的晶舟，用于承载需进行工艺的晶片，所述工艺管内壁顶部安装有可拆卸的沉积板；由于沉积掉落是在晶片的顶部区域...
该专利属于青岛赛瑞达电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛赛瑞达电子科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。