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本发明涉及光刻设备技术领域，公开一种清洁装置及曝光方法。所述清洁装置包括安装架、清洁石组件和快拆组件，清洁石组件用于清洁待清洁物，快拆组件可转动地设置于安装架上，清洁石组件与快拆组件可拆卸连接。通过转动快拆组件，进而带动清洁石组件转动，从而...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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