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本发明公开了一种晶圆片清洗装置，包括清洗室，所述清洗室内装有液态的硅片清洁液；还包括主控器；所述清洗室的两个相对面的侧壁之间横向设置喷淋管，所述喷淋管与所述清洗室内壁滑动连接；所述喷淋管的底部开设一排直线型的若干喷淋孔，所述硅片清洁液在所述...
该专利属于上海磬采电力科技开发有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海磬采电力科技开发有限公司授权不得商用。

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