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本发明提供一种检测方法，在衬底上依次形成第一绝缘层、第一栅极层和第一覆盖层，第一覆盖层的高度根据待测晶圆的预设层的第二栅极层上的第二覆盖层确定，第一覆盖层和第二覆盖层材料相同，第一栅极层和预设层的第二栅极层材料相同，第一覆盖层中的第一通孔和...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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