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发明涉及的光掩模板包括：基板；被加工膜；以及由含有铬的材料构成的膜，该膜从远离基板的一侧起具有第1层、第2层、第3层以及第4层。第1层的铬含有率为40原子％以下(含)，氧含有率为38原子％以上(含)，氮含有率为22原子％以下(含)，且厚度为...
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