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本发明公开了一种ITO颗粒的气氛烧结方法,属于ITO靶材加工技术领域,该气氛烧结方法包括以下步骤:S1、ITO素坯的制备:将In2O3粉末和SnO2粉末混合均匀,得到原料粉末,在所述原料粉末中加入粘合剂,混合均匀后喷雾造粒,然后将其装填到模...该专利属于株洲火炬安泰新材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过株洲火炬安泰新材料有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种ITO颗粒的气氛烧结方法,属于ITO靶材加工技术领域,该气氛烧结方法包括以下步骤:S1、ITO素坯的制备:将In2O3粉末和SnO2粉末混合均匀,得到原料粉末,在所述原料粉末中加入粘合剂,混合均匀后喷雾造粒,然后将其装填到模...