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本发明实施例提供的一种IGBT器件,包括MOSFET单元阵列,每个MOSFET单元包括:位于n型漂移区顶部的p型体区,位于p型体区内的n型发射极区,位于p型体区之上栅介质层、栅极和n型浮栅,栅极位于栅介质层之上且靠近n型发射极区的一侧,n型...该专利属于苏州东微半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州东微半导体股份有限公司授权不得商用。
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