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本发明公开了一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法，制备过程如下：(1)制备A2(双(2‑丙烯酰氧基乙基)二硫酯)单体；(2)制备含二硫键结构的超支化聚合物；(3)沉淀聚合；(4)除去模板分子；(5)得到多孔分子印迹缓释材料。利用双硫键还原敏感...
该专利属于西北大学所有，仅供学习研究参考，未经过西北大学授权不得商用。

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