一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法，制备过程如下：(1)制备A2(双(2‑丙烯酰氧基乙基)二硫酯)单体；(2)制备含二硫键结构的超支化聚合物；(3)沉淀聚合；(4)除去模板分子；(5)得到多孔分子印迹缓释材料。利用双硫键还原敏感断裂的性质，裂解去除超支化聚合物从而在MIPs中形成多孔结构，有利于模板分子与有效结合位点的传质吸附，是一种温和地制备多孔分子印迹材料的化学方法。所制备多孔MIPs具有材料体系的新颖性，所制备材料具有多孔性和选择性吸附性，预计在药物缓释方面具有良好的潜在应用价值。

【技术实现步骤摘要】
一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法
本专利技术属于分子化学领域，具体涉及一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法。
技术介绍
分子印迹材料(molecularimprintingpolymers，MIPs)主要由模板分子、具有结构互补的功能单体及交联剂共聚而成，在空间结构和位点上与模板分子完全匹配，通常通过氢键、静电作用、疏水作用以及其它非共价的相互作用，使功能单体和模板分子以结构互补的有序状态排布起来，具有构效预定性、特异识别性和广泛适用性。传统的MIPs通过本体聚合方法制备而来，通过印迹交联干燥后将聚合物研磨、破碎、筛分得到一定粒径的MIPs，洗脱除去模板分子后加以应用。虽然本体聚合过程比较简单，但此制备方法存在反复研磨费时、费力、产率低，所得的颗粒形状不规则，粒径高度分散等问题。因此，研究人员对MIPs的制备方法不断进行改进，已从本体聚合改进到悬浮聚合、分散聚合、原位聚合、沉淀聚合、表面印迹等方法。为了实现药物在体内更好的转运与吸收，提高药物对靶组织的针对性，聚合物药物载体体系得到了广泛的关注，采用聚合物材料控释体系能够提高药物的持续性和专一性，有效而简便的提高现有药物的疗效和安全性。MIPs由于其模板药物在聚合物中与功能单体有强的氢键作用，能进一步延迟药物从基体中的释放，具有成为药物载体的潜质。作为药物载体，MIPs对药物的缓释、对药物对映异构体的选择性释放、以及提高药物载体的药物负载量等都具有重要优势。针对印迹技术中一直存在印迹空穴包埋过深与过紧、结合位点不均一、可接近性差、识别动力学慢等问题，在现有分子印迹材料制备方法基础上，合成利于模板分子的脱除和再结合的多孔结构MIPs，对于提高MIPs有效识别位点的数目和利用率，减少有效位点的包埋，及提高吸附能力具有积极作用。我们采用“可逆共价键”和“超支化聚合物”的协同路径，通过迈克尔加成反应聚合成末端为C＝C并含有双硫键的超支化聚酰胺胺聚合物，通过还原敏感断裂双硫键在MIPs制备过程中的致孔作用，可在其表面直接发生印迹反应从而作为基质制备多孔MIPs，提高有效识别位点的数目和利用率，减少有效位点的包埋，提高吸附能力，和对模型药物分子的选择性包载和控制释放效率，从而扩展提升分子印迹材料功能和效率。
技术实现思路
为了解决现有技术中存在的上述问题，本专利技术提供了一种基于超支化聚合物的多孔分子印迹缓释材料的制备。本专利技术要解决的技术问题通过以下技术方案实现：本专利技术提供了一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法，制备过程如下：(1)制备A2(双(2-丙烯酰氧基乙基)二硫酯)单体：用含二硫键结构的双(2-羟基乙基)二硫醚和含端双键的丙烯酰氯，制备末端双键、含可逆二硫键结构的A2单体；(2)制备含二硫键结构的超支化聚合物：将步骤(1)合成的A2单体，加入B3(1-(2-氨乙基)-哌嗪)单体，通过迈克尔加成反应合成末端为双键的含二硫键结构的超支化聚合物；(3)沉淀聚合：将步骤(2)合成的超支化聚合物作为反应基质，盐酸硫胺素作为模板分子，甲基丙烯酸作为功能单体，乙二醇二甲基丙烯酸酯作为交联剂，偶氮二异丁腈作为热引发剂，在乙腈中进行沉淀聚合，得到印聚迹合物；(4)除去模板分子：将步骤(3)中印迹聚合物加入甲醇-乙酸-水溶液洗涤以除去模板分子；(5)得到多孔分子印迹缓释材料。在本专利技术的一个实施例中，在制备所述A2单体前，对反应体系进行无水无氧处理。在本专利技术的一个实施例中，所述步骤(1)中，所述A2与所述B3的摩尔比为2:1-3:1。在本专利技术的一个实施例中，所述步骤(2)中，所述A2与所述B3在2-8mL氯仿中45℃反应2天。在本专利技术的一个实施例中，所述氯仿单体浓度0.4-1.8mol/L。在本专利技术的一个实施例中，所述(3)过程为鼓泡除氧15min，在60℃的油浴中反应24h。在本专利技术的一个实施例中，所述(4)过程为过滤后放入滤纸中密封，放入索氏提取器中，加入所述甲醇、水、冰乙酸混合溶剂，在110℃冲洗3天。在本专利技术的一个实施例中，所述甲醇、水、冰乙酸混合溶剂体积比为60:30:10。与现有技术相比，本专利技术的有益效果在于：分子印迹技术是以某种特定的靶分子为模板，制备对该分子具备特异选择性聚合物的过程，具有优越的识别性、预定性及实用性。它能够按照不同的目标制备相应的MIPs，以满足各类不同的应用需求。MIPs由于模板分子与功能单体之间具有氢键作用，能够进一步延缓药物从材料中的释放而具有成为药物载体的潜质。超支化聚合物由于分子内的多空腔结构，分子链少缠结和优良的溶解性而受到广泛的关注。基于以上思路，本专利技术从制备具有多孔结构的MIPs入手，以含有还原敏感断裂双硫键的化合物为单体制备超支化高分子聚合物，以此为基质进行分子印迹，是制备具有多孔结构MIPs的一种新思路。利用双硫键还原敏感断裂的性质，裂解去除超支化聚合物从而在MIPs中形成多孔结构，有利于模板分子与有效结合位点的传质吸附，是一种温和地制备多孔分子印迹材料的化学方法。所制备多孔MIPs具有材料体系的新颖性，所制备材料具有多孔性和选择性吸附性，预计在药物缓释方面具有良好的潜在应用价值。以下将结合附图及实施例对本专利技术做进一步详细说明。附图说明图1是本专利技术实施例提供的一种多孔分子印迹材料制备示意图；图2是本专利技术实施例提供的一种A2单体的合成路线；图3是本专利技术实施例提供的一种A2单体的1H-NMR谱图图4是本专利技术实施例提供的一种HBP-AP超支化聚合物的合成路线图图5是本专利技术实施例提供的一种还原降解过程中GPC曲线随时间变化示意图图6是本专利技术实施例提供的一种放大10000倍的四组材料的SEM图像：(a)MIPs-1，(b)NIPs-1，(c)MIPs-2，(d)NIPs-2。图7是本专利技术实施例提供的一种多孔印迹材料的载药性能(MIPs-1，NIPs-1为基于超支化降解制备的多孔印迹材料；MIPs-2，NIPs-2为常规法制备印迹材料)图8是本专利技术实施例提供的一种四组材料在缓冲溶液中的缓释情况：(a)pH＝1.7，(b)pH＝7.4。具体实施方式为了进一步阐述本专利技术为达成预定专利技术目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及具体实施方式，对依据本专利技术提出的一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法进行详细说明。有关本专利技术的前述及其他
技术实现思路
、特点及功效，在以下配合附图的具体实施方式详细说明中即可清楚地呈现。通过具体实施方式的说明，可对本专利技术为达成预定目的所采取的技术手段及功效进行更加深入且具体地了解，然而所附附图仅是提供参考与说明之用，并非用来对本专利技术的技术方案加以限制。应当说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法，其特征在与，制备过程如下：/n(1)制备A2单体：用含二硫键结构的双二硫醚和含端双键的丙烯酰氯，制备末端双键、含可逆二硫键结构的A2单体；/n(2)制备含二硫键结构的超支化聚合物：将步骤(1)合成的所述A2单体，加入B3单体，通过迈克尔加成反应合成末端为双键的含二硫键结构的超支化聚合物；/n(3)沉淀聚合：将步骤(2)合成的所述超支化聚合物作为反应基质，盐酸硫胺素作为模板分子，甲基丙烯酸作为功能单体，乙二醇二甲基丙烯酸酯作为交联剂，偶氮二异丁腈作为热引发剂，在乙腈中进行沉淀聚合，得到印聚迹合物；/n(4)除去模板分子：将步骤(3)中所述印迹聚合物加入甲醇-乙酸-水溶液洗涤以除去模板分子；/n(5)得到多孔分子印迹缓释材料。/n

【技术特征摘要】
1.一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法，其特征在与，制备过程如下：
(1)制备A2单体：用含二硫键结构的双二硫醚和含端双键的丙烯酰氯，制备末端双键、含可逆二硫键结构的A2单体；
(2)制备含二硫键结构的超支化聚合物：将步骤(1)合成的所述A2单体，加入B3单体，通过迈克尔加成反应合成末端为双键的含二硫键结构的超支化聚合物；
(3)沉淀聚合：将步骤(2)合成的所述超支化聚合物作为反应基质，盐酸硫胺素作为模板分子，甲基丙烯酸作为功能单体，乙二醇二甲基丙烯酸酯作为交联剂，偶氮二异丁腈作为热引发剂，在乙腈中进行沉淀聚合，得到印聚迹合物；
(4)除去模板分子：将步骤(3)中所述印迹聚合物加入甲醇-乙酸-水溶液洗涤以除去模板分子；
(5)得到多孔分子印迹缓释材料。


2.如权利要求1所述的多孔分子印迹缓释材料的制备方法，其特征在与，在制备所述A2单体前，对反应体系进行无水无氧处理。


3.如权利要求1所述的多孔分子印迹...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈方方，孙敏，张靖婧，吕成凯，
申请(专利权)人：西北大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61