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本实用新型涉及一种原子层沉积设备，包括具有内腔的反应室、设置在反应室内用于承载沉积用衬底的载台及用于加热衬底的加热机构，反应室顶部开设开口，原子层沉积设备还包括盖合开口使得反应室的内腔形成封闭腔室的上盖，载台设置在上盖底面，当衬底安装在载台...
该专利属于披刻半导体(苏州)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过披刻半导体(苏州)有限公司授权不得商用。

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