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本实用新型公开了一种高分子材料切割设备，包括：底座，所述底座的左壁面和右壁面分别开设有滑槽，四个所述支脚的顶端分别设置于底座下壁面的四角处，两个所述滑块一侧壁面的底端分别可滑动的设置于底座左壁面和右壁面开设的滑槽内的一侧，所述支撑块的两端分...
该专利属于重庆市涪陵区锐麒斯创科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆市涪陵区锐麒斯创科技有限公司授权不得商用。

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