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本发明是一种半导体PECVD设备零部件分流盘加工工艺,包括如下步骤:(1)采购2.5mm定制6061‑T6铝合金等厚板,平面度0.2mm;(2)采用碱咬方式去除原材料表面氧化皮;(3)碱咬时,固定槽液成分、槽液温度、时间,保证零件厚度公差;...该专利属于沈阳富创精密设备股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过沈阳富创精密设备股份有限公司授权不得商用。
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本发明是一种半导体PECVD设备零部件分流盘加工工艺,包括如下步骤:(1)采购2.5mm定制6061‑T6铝合金等厚板,平面度0.2mm;(2)采用碱咬方式去除原材料表面氧化皮;(3)碱咬时,固定槽液成分、槽液温度、时间,保证零件厚度公差;...