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一种将多个光刻系统使用的工艺最佳化的方法，所述方法包括下述步骤：（ａ）利用第一光刻系统确定为指定工艺和目标图案确定校准的抗蚀剂模型；（（ｂ）选择要用于使用所述指定工艺成像所述目标图案的第二光刻系统，所述第二光刻系统可配置有多个衍射光学元件之...
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