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密封槽及半导体真空设备制造技术
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文档序号:28519928
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本实用新型提供了一种密封槽,所述密封槽的开口端设有压合件,所述密封槽内放置密封圈,所述密封圈高于所述密封槽的顶端面并与所述压合件贴合,所述密封槽的内侧面设有至少一个缓冲部,所述缓冲部向所述密封槽的内侧面内凹陷。本实用新型通过在所述密封槽的内...
该专利属于上海诺硕电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海诺硕电子科技有限公司授权不得商用。
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