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本实用新型公开了用于半导体真空光刻制程的密封件，包括箱体，箱体的一侧表面设置有连接机构，连接机构的远离箱体的一端设置有进气机构，本实用新型所达到的有益效果是：通过将进气结构转移到外部的进气机构上，使箱体附近的密封组件不受气流冲刷，降低检修成...
该专利属于沸点密封科技（江苏）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沸点密封科技（江苏）有限公司授权不得商用。

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