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提供一种使用机器学习系统的对在半导体晶片上形成的结构的光学计量，通过得到用计量装置测量的第一衍射信号，检测在半导体晶片上形成的结构。通过使用机器学习系统产生第二衍射信号，其中，机器学习系统接收一个或更多个表征结构的剖面的参数作为输入，以产生...
该专利属于音质技术公司所有，仅供学习研究参考，未经过音质技术公司授权不得商用。

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