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一种产生用在成像过程图案中的掩模的方法。该方法包括以下步骤：（ａ）获得具有多个要成像在衬底上的特征的需要的目标图案；（ｂ）利用目标图案和与限定过程相关的过程参数来模拟晶片图像；（ｃ）限定至少一个特征类别；（ｄ）在目标图案中识别对应于至少一个...
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