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本发明是一种薄膜沉积装置，其具有腔体、载台、至少一挡件与至少一遮蔽件。所述载台用以承载基板，而挡件则防止载台上的基板的背镀。所述遮蔽件与挡件直接或间接卡合，且遮蔽件高于挡件并用以遮蔽挡件，以代替挡件盛接部分未沉积于基板的靶材原子。如此，可避...
该专利属于鑫天虹(厦门)科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过鑫天虹(厦门)科技有限公司授权不得商用。

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