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一步磁控溅射沉积无机/有机交替混合结构超高阻隔膜的制备方法技术
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文档序号:28493200
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本发明公开了一种一步磁控溅射沉积无机/有机交替混合结构超高阻隔膜的制备方法。尤其是在可弯曲的柔性基体上用无机物旋转靶材和有机物旋转靶材通过R2R一步法制备的超高阻隔膜,通过控制旋转靶材的配比和R2R工艺,制备了具有高阻水性能的柔性透明超高阻...
该专利属于汕头大学所有,仅供学习研究参考,未经过汕头大学授权不得商用。
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