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本实用新型公开了一种阳极氧化连续清洗装置，包括壳体、翻转机构、第一传输带及第二传输带，壳体的顶面均匀设有若干喷淋器，第二传输带的上表面低于第二传输带的上表面，翻转机构固定设于第一传输带及第二传输带的连接处，翻转机构包括支架、铰链座、翻转槽及...
该专利属于英迪那米（徐州）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过英迪那米（徐州）半导体科技有限公司授权不得商用。

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