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药液、药液容纳体、抗蚀剂图案形成方法、半导体芯片的制造方法技术
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文档序号:28448968
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本发明提供一种在用作显影液或冲洗液时,能够形成图案间隔的偏差得到抑制的抗蚀剂图案的药液、药液容纳体、抗蚀剂图案形成方法及半导体芯片的制造方法。本发明的药液含有乙酸正丁酯及乙酸异丁酯,所述药液中,相对于药液总质量,乙酸正丁酯的含量为99.00...
该专利属于富士胶片株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士胶片株式会社授权不得商用。
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