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一种集成电路，一种用于设计该集成电路的方法和系统，以及一种用于制作该集成电路的方法。该方法包括：（ａ）生成集成电路的集成电路设计（３００）的光掩模级设计，该光掩模级设计包括多个集成电路元件形状；（ｂ）指定光掩模级设计在相邻集成电路元件形状之...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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