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本发明公开一种上下料控制方法、存储介质、等离子清洗设备，包括：接收到上料指令时，获取待上料的目标框架的框架类型；获取框架类型对应的运动参数，运动参数包括上料装置对应的第一子运动参数以及传送装置对应的第二子运动参数；控制上料装置按照第一子运动...
该专利属于深圳泰德半导体装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳泰德半导体装备有限公司授权不得商用。

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