温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种用于单晶圆片背面清洁机构，涉及到半导体技术领域，包括清洗液回收机构、晶圆承载平台、晶圆正面清洗机构、晶圆背面清洗机构、转动轴组和晶圆定位器，其中，清洗液回收机构的内部设有一容纳腔，晶圆承载平台可升降地设于容纳腔内，在晶圆承载...该专利属于上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体(上海)有限公司授权不得商用。