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本发明涉及气密性检漏的装置及工艺技术领域，且公开了一种真空电子器件气密性检漏的装置及方法，包括支撑架，所述压力系统、支架系统、密封系统、辅助机构系统和平板，所述支架系统包括顶板、立柱和底板，所述密封系统包括密封框和密封门，所述辅助机构系统包...
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