下载利用多次曝光印刷光刻图像的方法和系统的技术资料

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一种使用光刻制造设备来印刷用于IC产品的图像的方法,该方法包括:    识别一个或多个关键特征,所述一个或多个关键特征对应于所述IC产品上的由于间距尺寸问题而无法在所述光刻制造设备的单次曝光中被印刷的一个或多个特征;    识别一个或多个非...
该专利属于凯迪斯设计系统公司所有,仅供学习研究参考,未经过凯迪斯设计系统公司授权不得商用。

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