温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

提供一种用来在光掩模上形成非正交特征的光掩模和方法。用来在光掩模坯件上形成非正交特征的方法包括提供包括原始形状的掩模图案文件以及将原始形状分裂成多个可写形状。通过利用光刻系统将可写形状从掩模图案文件成像到光掩模坯件的抗蚀剂层上，由可写形状形...
该专利属于凸版光掩膜公司所有，仅供学习研究参考，未经过凸版光掩膜公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。