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本发明提供了一种真空器皿离子镀工艺，属于离子镀技术领域。它解决了现有技术存在着稳定性差的问题。本真空器皿离子镀工艺包括以下步骤：A、准备：真空电镀装置包括内部为空腔的壳体，在壳体内具有用于放置真空器皿工件的连接架，壳体上具有能开闭的门板，打...
该专利属于浙江安胜科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江安胜科技股份有限公司授权不得商用。

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