下载半导体装置及其形成方法的技术资料

文档序号:28202365

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本发明实施例提供一种半导体装置及其形成方法。此方法包括在基板中形成感测像素阵列、在基板上形成多个透光柱、以及在基板之上形成遮光层以覆盖透光柱。上述感测像素阵列包括多个感测像素,且上述透光柱对应设置于感测像素阵列的感测像素之上。上述遮光层为多...
该专利属于世界先进积体电路股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过世界先进积体电路股份有限公司授权不得商用。

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