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一种改善蚀刻应力的引线框架制造技术
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下载一种改善蚀刻应力的引线框架的技术资料
文档序号:28077207
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本实用新型涉及一种改善蚀刻应力的引线框架,包括引脚和基岛,所述引脚和基岛背面部分区域为半蚀刻,所述基岛背面半蚀刻后形成长条形的散热片,所述基岛的边缘设有用于减少与蚀刻液接触面积的通孔。首先,通孔的位置设置不会影响在基岛上焊接芯片,其次,通孔...
该专利属于气派科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过气派科技股份有限公司授权不得商用。
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