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本实用新型涉及一种用于原子层沉积工艺的装置，包括有外真空腔体、内反应腔体、工件架、加热组件、进气组件和真空组件，所述内反应腔体固设于所述外真空腔体内，所述工件架设于所述内反应腔体内，所述加热组件围绕所述内反应腔体设置，且设于所述内反应腔体的...
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