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本发明提供一种晶圆清洗系统，包括对多个晶圆清洗的多个清洗模组，存储清洗剂的供液装置，供液装置用于存储清洗晶圆用的清洗剂；连通供液装置的供液总管，若干供液支管，与清洗模组一一对应，每一根供液支管连通供液总管，向对应的清洗模组输送清洗剂；若干显...
该专利属于至微半导体（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过至微半导体（上海）有限公司授权不得商用。

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