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本发明提供一种洗净装置，可抑制真空状态下的静电吸附力的减少，并去除半导体制造装置的真空处理室内的异物。所述洗净装置包括：异物吸附部4，在绝缘体的内部设置有包含一对电极的吸附电极3；以及吸附控制部5，将控制开关接通来使所述吸附电极带电，使绝缘...
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