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一种在质谱仪中处理离子的方法包括:将一种或多种前驱物离子引入碰撞室中,以使所述离子的至少一部分碎裂,其中,碰撞室被配置为约束具有大于所选定阈值的m/z比的离子(即,高m/z离子)。离子被从碰撞室释放并被引入下游分析仪离子阱中,以径向约束高m...该专利属于DH科技发展私人贸易有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过DH科技发展私人贸易有限公司授权不得商用。
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一种在质谱仪中处理离子的方法包括:将一种或多种前驱物离子引入碰撞室中,以使所述离子的至少一部分碎裂,其中,碰撞室被配置为约束具有大于所选定阈值的m/z比的离子(即,高m/z离子)。离子被从碰撞室释放并被引入下游分析仪离子阱中,以径向约束高m...