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提供了等离子体处理设备和相关方法。在一个示例中，等离子体处理设备可以包括被配置为能够保持等离子体的等离子体腔室。该等离子体处理设备可以包括形成该等离子体腔室的壁的至少一部分的介电窗。该等离子体处理设备可以包括位于该介电窗附近的感应耦合元件。...该专利属于玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司授权不得商用。