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本申请案涉及用于半导体布局的设备及方法。本发明的实施例涉及用于包含加宽部分的沟槽壁及/或包含收缩部分的导电结构的设备及方法。在一些实例中，所述沟槽壁可包含沿着所述沟槽壁的长度隔开的多个加宽部分。类似地，在一些实例中，所述导电结构可包含沿着所...
该专利属于美光科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过美光科技公司授权不得商用。

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