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本实用新型涉及一种蚀刻装置，包括：壳体，壳体包括蚀刻腔和工具腔，蚀刻腔包括相对的底壁和顶壁，以及连接顶壁和底壁的侧壁；工具腔与蚀刻腔通过侧壁隔开；上电极，设于顶壁；下电极，设于底壁，并用于放置晶圆；活动门，设于侧壁，并用于连通蚀刻腔和工具腔...
该专利属于重庆康佳光电技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆康佳光电技术研究院有限公司授权不得商用。

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