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一种改善鳍式器件衬底图形不平坦对光刻聚焦影响的方法，包括用硬掩膜层填平分布有密集和孤立的FIN鳍式器件衬底；根据工艺要求确定在硬掩膜层上依次形成抗反射层的厚度范围和光刻胶的厚度，选取抗反射层的厚度范围中的N个厚度值(T...该专利属于上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。