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本发明公开一种喷头组件与原子层沉积设备。所述原子层沉积设备的喷头组件用以喷洒反应前驱物至基板载台所承载的基板上,以实现原子层沉积制程。所述喷头组件包括第一梯形柱体部件、第二梯形柱体部件与柱体部件,第一梯形柱体部件透过其第一底边与第二梯形柱体...该专利属于鑫天虹(厦门)科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过鑫天虹(厦门)科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开一种喷头组件与原子层沉积设备。所述原子层沉积设备的喷头组件用以喷洒反应前驱物至基板载台所承载的基板上,以实现原子层沉积制程。所述喷头组件包括第一梯形柱体部件、第二梯形柱体部件与柱体部件,第一梯形柱体部件透过其第一底边与第二梯形柱体...