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本发明公开一种电致变色复合膜系中氧化钨层的制备方法，包括以下步骤：S1、选用电阻率为20欧姆的ITO镀膜玻璃作为为衬底；S2、将衬底装入样品架，送入磁控溅射镀膜腔室中；S3、对磁控溅射镀膜腔室抽真空，使真空度达到8.0*10...
该专利属于中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司授权不得商用。

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