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一种改善鳍式器件密集和孤立图形形貌线宽差异的方法，包括制作第一掩模板在第一孤立图形周围增加同等线宽的可分辨辅助图形，在第二孤立图形周围增加亚分辨率辅助图形，并通过OPC方法结合刻蚀工艺线宽微缩量要求修正使得密集图形、第一、第二孤立图形和可分...该专利属于上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。