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本实用新型涉及一种双面抛光机压布装置，所属双面研磨抛光机技术领域，包括下转盘，所述的下转盘上设有与下转盘相螺栓连接固定的上压盘，所述的上压盘与下转盘间设有若干呈等间距环形分布的压布滚轮组件，所述的压布滚轮组件与下转盘间设有与下转盘相轴承式嵌...
该专利属于杭州中欣晶圆半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州中欣晶圆半导体股份有限公司授权不得商用。

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