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一种基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨装置，包括研磨盘模块、电源模块、反馈控制模块、电解液模块和轴承滚子，所述研磨盘模块中，上研磨盘可实现上下运动，对轴承滚子进行加压，吸附轴承滚子使其转动力矩大于摩擦阻力矩，从而实现轴承滚子接触恒...
该专利属于浙江工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江工业大学授权不得商用。

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