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本发明公开了一种快速清洗大面积真空腔室内累积薄膜的方法，涉及半导体光电转换领域，包括以下步骤：步骤S1：第一步清洗，向沉积腔室通入第一清洗气体，产生等离子体，调整第一压力和第一清洗气体流量将所述等离子体的滞留时间调整为第一滞留时间，清洗时间...
该专利属于中威新能源(成都)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中威新能源(成都)有限公司授权不得商用。

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