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本发明公开了一种晶片研磨夹具的清洗方法，涉及半导体材料技术领域。本发明的一种晶片研磨夹具的清洗方法，所述清洗方法是将研磨后的夹具用清洗刷刷洗干净后，还进行了腐蚀清洗和超声清洗，所述腐蚀清洗包括一次腐蚀清洗和二次腐蚀清洗步骤，所述超声清洗包括...
该专利属于威科赛乐微电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过威科赛乐微电子股份有限公司授权不得商用。

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