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本实用新型公开了一种平面型的槽栅IGBT半导体功率器件,该器件包括:半导体衬底,在半导体衬底上的N型轻掺杂漂移区,在N型轻掺杂漂移区上的P型阱区和N型重掺杂缓冲区,在P型阱区上的N型轻掺杂区,在N型轻掺杂区上的N型重掺杂区,在远离栅结构的N...该专利属于厦门芯一代集成电路有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过厦门芯一代集成电路有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种平面型的槽栅IGBT半导体功率器件,该器件包括:半导体衬底,在半导体衬底上的N型轻掺杂漂移区,在N型轻掺杂漂移区上的P型阱区和N型重掺杂缓冲区,在P型阱区上的N型轻掺杂区,在N型轻掺杂区上的N型重掺杂区,在远离栅结构的N...